包括一大型潔凈空間及回風(fēng)通道；大型潔凈空間從上到下包括架構空間、潔凈空間和循環(huán)空間，所述循環(huán)空間內設有生產(chǎn)輔助設備；所述循環(huán)空間內設置生產(chǎn)輔助設備的區域的四周均設有隔板，使其構成獨立的密閉空間；在所述潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設有至少1個(gè)回風(fēng)柱，所述回風(fēng)柱的頂端與架構空間連通，其底端與高架地板連通；所述回風(fēng)柱內設有風(fēng)機。本實(shí)用新型解決了生產(chǎn)輔助設備易產(chǎn)生泄漏的問(wèn)題；與此同時(shí)，在潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設置多個(gè)回風(fēng)柱，通過(guò)回風(fēng)柱實(shí)現氣流循環(huán)，同時(shí)還充分利用了其內的潔凈空氣，而且降低了消耗。    

現代藥廠(chǎng)潔凈廠(chǎng)房--空氣過(guò)濾器，以建造單層大框架正方形大面積廠(chǎng)房最佳。其顯著(zhù)優(yōu)點(diǎn)是外墻面積最小、能耗低，可節約建筑、冷熱負荷的投資和設備運 轉費用。另外，可控制和減少窗墻比，加強門(mén)窗構造的氣密性。此外，在有高溫差的潔凈室設置隔熱層，圍護結構采用隔熱性能和氣密性好的材料及構造，建筑外墻 內側采用保溫或夾芯保溫復合墻板；在濕度控制房間設置有良好防潮性能的密封室：這些措施均能達到節能的目的。

 1.一種用于半導體廠(chǎng)房的潔凈室，包括新風(fēng)輸送系統、排氣系統和一大型潔凈空間及回風(fēng)通道； 所述大型潔凈空間從上到下包括架構空間(4)、潔凈空間(5)和循環(huán)空間(6)，架構空間和潔凈空間之間設有天花板(7)，潔凈空間和循環(huán)空間之間設有高架地板(2)和混凝土板(3);所述循環(huán)空間內設有生產(chǎn)輔助設備；其特征在于: 所述循環(huán)空間內設置生產(chǎn)輔助設備的區域的四周均設有隔板(8)，使其構成獨立的密閉空間；循環(huán)空間內還設有連通管，連通管的一端與所述密閉空間連通，另一端與潔凈室的外界連通； 在所述潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設有至少I(mǎi)個(gè)回風(fēng)柱(9)，所述回風(fēng)柱的頂端與架構空間連通，其底端與高架地板連通； 所述回風(fēng)柱內設有風(fēng)機(10)。
2.根據權利要求1所述的潔凈室，其特征在于:所述架構空間和高架地板內相對于所述密閉空間的位置均設有第二隔板(11)，使所述密閉空間上方的架構空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環(huán)境結構。
3.根據權利要求2所述的潔凈室，其特征在于:所述架構空間、高架地板和潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置均設有第二隔板，使所述密閉空間上方的架構空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環(huán)境結構。
4.根據權利要求1所述的潔凈室，其特征在于:所述密閉空間的頂端設有密封板(12)，所述密封板設于高架地板和混凝土板之間。
5.根據權利要求1所述的潔凈室，其特征在于:所述回風(fēng)柱內設有干盤(pán)管(13)。

    減少潔凈空間體積

    潔凈空間的減少，意味著(zhù)風(fēng)量比、換氣次數、送風(fēng)動(dòng)力消耗都隨之降低。潔凈室每平方米耗能是普通空調辦公樓的10~30倍。若減少潔凈體積30％，可節能25％。又由于1萬(wàn)級潔凈區電耗是10萬(wàn)級的2.5倍，因此，企業(yè)應按不同的空氣潔凈度等級要求分別集中布置，空氣過(guò)濾器盡最大努力減少潔凈室特別是高級別潔凈室的面積，同時(shí)，應使潔凈度要求高的潔凈室工程盡量靠近空調機房，以減少管線(xiàn)長(cháng)度，降低能量損耗。

    合理設計空氣潔凈等級

    在藥廠(chǎng)潔凈室設計中，對空氣潔凈度等級標準的確定，應在保證生產(chǎn)質(zhì)量的前提下，綜合考慮工藝生產(chǎn)能力、設備的大小、操作方式和前后生產(chǎn)工序的連接方式、操 作人數、設備自動(dòng)化程度、設備檢修空間、設備清洗方式等因素，以降低投資和運行費用，達到節能要求。一是按生產(chǎn)要求確定凈化等級，如對注射劑稀配可定為1 萬(wàn)級，而濃配對環(huán)境要求不高，可定為10萬(wàn)級。二是對潔凈度要求高、操作崗位相對固定的場(chǎng)所使用局部?jì)艋胧?。如大輸液的灌封等可?/span>1萬(wàn)級背景下局部 100級的生產(chǎn)環(huán)境內操作。三是允許隨生產(chǎn)條件的變化調整生產(chǎn)環(huán)境潔凈要求。如注射劑稀配1萬(wàn)級，當采用密閉系統時(shí)生產(chǎn)環(huán)境可為10萬(wàn)級。